請詳細介紹羅丹明標記的Ti3C2Tx MXene的制備方法。


羅丹明標記的 Ti?C?T? MXene 的制備方法主要分為含氟/無氟刻蝕制備 MXene 基底、化學修飾引入活性基團、羅丹明標記三個階段,具體步驟如下:
一、Ti?C?T? MXene 基底的制備
Ti?C?T? MXene 的制備方法主要包括含氟刻蝕法和無氟刻蝕法。
含氟刻蝕法:
HF 刻蝕法:利用氫氟酸(HF)與 MAX 相(如 Ti?AlC?)中的鋁層反應,選擇性刻蝕掉鋁層,生成 AlF?,同時留下 Ti?C?層。此過程中,Ti?C?層會與水或 HF 進一步反應,生成表面官能團(如 —OH、—F、—O)。
原位形成 HF 刻蝕法:通過化學反應在 MAX 相材料表面原位生成 HF,從而實現刻蝕。
含氟熔融鹽刻蝕法:使用含氟的熔融鹽(如 KF、LiF 及 NaF)在高溫下釋放出氟離子,與 MAX 相反應生成 MXene。
無氟刻蝕法:
堿熔法:將 Ti?AlC? 中的鋁層與堿性化合物(如 NaOH 或 KOH)發生反應,生成可溶性的鋁酸鹽,從而選擇性地去除鋁層,留下 Ti?C?層。
電化學刻蝕法:通過電場作用加速合成 Ti?C?T? MXene 的過程。該方法使用 Ti?AlC? MAX 相作為前驅體,將待刻蝕的前驅體 MAX 相作為工作電極,在電解液中施加電壓進行電化學反應,選擇性去除 A 原子層,從而得到 Ti?C?層。
水熱法:基于高溫高壓水溶液環境,通過化學反應選擇性去除 Ti?AlC? 中的鋁層,從而得到 Ti?C?層。
二、Ti?C?T? MXene 的化學修飾
為了將羅丹明標記到 Ti?C?T? MXene 上,需要對其表面進行化學修飾,引入活性基團(如氨基、羧基等),以便與羅丹明分子發生共價反應。
硅烷化試劑修飾:
使用硅烷化試劑(如 APTES)在 MXene 表面引入氨基。APTES 中的硅氧烷基團可以與 MXene 表面的羥基發生反應,形成硅氧鍵,同時引入氨基。
其他化學修飾方法:
根據具體需求,還可以采用其他化學修飾方法,如羧基化、硫醇化等,以引入不同的活性基團。
三、羅丹明標記 Ti?C?T? MXene
在 MXene 表面引入活性基團后,可以將其與羅丹明分子進行共價反應,實現標記。
共價偶聯法:
活化 MXene 表面:若 MXene 表面已修飾有氨基,可以將其與羅丹明異硫氰酸酯(RITC)反應。RITC 中的異硫氰酸酯基團可以與氨基發生反應,形成穩定的硫脲鍵,從而將羅丹明標記到 MXene 上。
EDC/NHS 介導的偶聯:若羅丹明分子含有羧基,可以通過 EDC(1-乙基-3-(3-二甲基氨基丙基)碳二亞胺鹽酸鹽)和 NHS(N-羥基琥珀酰亞胺)活化羧基,然后與 MXene 表面的羥基或氨基發生反應,形成酯鍵或酰胺鍵,實現標記。
物理吸附法:
靜電吸附:Ti?C?T? MXene 表面帶負電(因 -Tx 終止基團),可以通過靜電作用吸附帶正電的羅丹明衍生物(如羅丹明 B)。將 MXene 分散液與羅丹明 B 溶液混合,避光攪拌數小時,然后離心去除未結合的染料,即可得到羅丹明標記的 MXene。
層間插層:利用 MXene 的層狀結構,通過超聲或攪拌使羅丹明分子插入層間。
表面吸附:通過 π-π 堆積或氫鍵作用實現物理吸附。
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